Perspectives of the heavy metal halides family for direct and digital X-ray imaging.

Dublin Core

Título

Perspectives of the heavy metal halides family for direct and digital X-ray imaging.

Tema

RAYOS X
METALES PESADOS
IMAGENES DIGITALES
BIBLIOGRAFIA NACIONAL QUIMICA
2005

Abstract

Films of heavy metal halides (mercuric iodide, lead iodide, bismuth tri-iodide, lead bromide, mercuric bromide and mercuric bromide-iodide), 1” x 1” and 2” x 2” in area, have been grown by physical vapor deposition onto alumina and glass substrates with conductive coatings. From the point of view of film growth the materials was found to have similar behavior, which was evaluated by studying grain size and texture of the films as a function of growth temperature. Films grow oriented with the (0 0 l) crystalline planes parallel or perpendicular to the substrate, according to X-ray diffraction. The influence of film orientation on electrical properties and on response to radiation was evaluated by measuring resistivity and response to X-rays. All the layers give good linearity of response to an X-ray beam. The sensitivity of the layers (signal to dark relation / exposure rate) is maximum (1380) for mercuric iodide. For all the materials, the more oriented the films, the lowest the dark current, and the higher the sensitivity and the signal/dark relation. A superior correlation between electrical and response properties and the layer orientation can be deduced for films of the family of heavy metal halides, observed as a whole.

Autor

Aguiar, I
Noguera, A
Pérez, M
Sasen, M
Mussio, L

Fuente

IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record v. 2, no. 1596395, 2005. -- p. 878-881

Editor

IEEE

Fecha

2005

Derechos

Información sobre Derechos de Autor

(Por favor lea este aviso antes de abrir los documentos u objetos)

La legislación uruguaya protege el derecho de autor sobre toda creación literaria, científica o artística, tanto en lo que tiene que ver con sus derechos morales, como en lo referente a los derechos patrimoniales con sujeción a lo establecido por el derecho común y las siguientes leyes

(LEY 9.739 DE 17 DE DICIEMBRE DE 1937 SOBRE PROPIEDAD LITERARIA Y ARTISTICA CON LAS MODIFICACIONES INTRODUCIDAS POR LA LEY DE DERECHO DE AUTOR Y DERECHOS CONEXOS No. 17.616 DE 10 DE ENERO DE 2003, LEY 17.805 DE 26 DE AGOSTO DE 2004, LEY 18.046 DE 24 DE OCTUBRE DE 2006 LEY 18.046 DE 24 DE OCTUBRE DE 2006)

ADVERTENCIA - La consulta de este documento queda condicionada a la aceptación de las siguientes condiciones de uso: Este documento es únicamente para usos privados enmarcados en actividades de investigación y docencia. No se autoriza su reproducción con fines de lucro. Esta reserva de derechos afecta tanto los datos del documento como a sus contenidos. En la utilización o cita de partes debe indicarse el nombre de la persona autora.

Formato

PDF

Idioma

Inglés

Tipo

Artículo

Identificador

Doi: 10.1109/NSSMIC.2005.1596187

Document Item Type Metadata

Original Format

PDF
Fecha de agregación
March 9, 2015
Colección
Bibliografía Nacional Química
Tipo de Elemento
Document
Etiquetas
, ,
Citación
Fornaro, Laura, “Perspectives of the heavy metal halides family for direct and digital X-ray imaging.,” RIQUIM - Repositorio Institucional de la Facultad de Química - UdelaR, accessed April 27, 2024, https://riquim.fq.edu.uy/items/show/2484.
Archivos