Low Dark Current (0 0 l) Mercuric Iodide Thick Films for X-Ray Direct and Digital Imagers.

IMAGENES DIGITALES

BIBLIOGRAFIA NACIONAL QUIMICA

2005

Mercuric iodide films were grown by the physical vapor deposition method on palladium-coated glass substrates 2 2 in size. The growth was performed in a system especially designed and constructed for getting a fine control of the growth parameters. The best growth conditions were a source temperature of 120 C, a growth temperature of 60 C and a growth time of 24 h, with an initial pressure of 6 10 3 Pa. Film thicknesses and grain sizes gave values ranging between 100 and 260 m (10%), and between (10 5) and (30 10) m, respectively. Films grew oriented with the (0 0 ) crystalline planes parallel to the substrate, with a texture of 0.94, measured by X-ray powder diffraction. The dark current density of the films is lower than 0.3 pA mm2 for electric fields below 0.4 V m, and their resistivity is 1 5 1014 cm. Mobility-lifetime values of 5 2 10 6 cm2 V and 6 2 10 6 cm2 V can be estimated for electrons and holes, respectively. Films give a sensitivity to X-rays of 37 nC R cm2. A signal to dark relation of 1120 was measured at 750 mR/s and 32 KVp, with an electric field of 0.4 V m applied to the film. The low dark current, as far as the high signal to noise results obtained, indicate these films as very suitable for direct and digital imaging.

IEEE Transactions on Nuclear Science v. 52, no. 6, 2005. -- p. 3107-3110

IEEE

2005

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DOI: 10.1109/TNS.2005.862922

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